Нанопечатная литография (NIL) дешевле фотолитографии в ультрафиолетовом и дальнем ультрафиолетовом диапазоне, с помощью которой в настоящее время изготавливаются самые миниатюрные микросхемы масштаба 7 нм и меньше. До сих пор нанопечатная литография использовалась для производства микросхем с более крупными элементами, но недавно компания Canon объявила о разработке машины, способной делать микросхемы масштаба 5 нм, а в перспективе — до 2 нм. Стоимость такой машины, по словам генерального директора Canon Фудзио Митараи, может быть на порядок меньше, чем оборудования для фотолитографии в дальнем ультрафиолетовом диапазоне компании ASML — единственного в мире производителя такого оборудования. Машины ASML стоят сотни миллионов долларов.

Из-за санкций, наложенных США, ни ASML, ни другие производители не могут поставлять фотолитографическое оборудование в Китай. В Японии тоже действуют ограничения на экспорт определенных технологий в Китай, но нанопечатная литография напрямую в списке запрещенных технологий не упоминается. Однако Фудзио Митараи отметил, что в компании полагают, что запрет касается любых технологий, используемых для производства микросхем масштаба меньше 14 нм, и поэтому новые машины Canon тоже нельзя будет поставлять в Китай.