Фото Ренсселлеровского политехнического института


Специалисты Ренсселлеровского политехнического института и компании Polyset объявили о разработке такого полимера нового вида, недорогого в изготовлении и обладающего рядом преимуществ по сравнению с традиционно применяемыми. Он высыхает и затвердевает при более низких температурах, обладает меньшим уровнем поглощения влаги и хорошо сцепляется с медью. Кроме того, новый полимер можно использовать как в традиционной фотолитографии, так и в процессе нового поколения, находящемся в экспериментальной стадии, - наноимпринтной ультрафиолетовой литографии (фото демонстрирует качество элементов микросхемы, формируемых данным способом с применением нового полимера).