В Китае началось массовое производство собственного оборудования для производства микросхем на основе технологии иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолетовом излучении (immersion deep-ultraviolet, DUV). Его возглавила малоизвестная китайская государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, объединившая команды ведущих китайских стартапов в области литографии, сообщили в Reuters.

По данным The Information, в этом году планируется выпустить около пяти машин DUV, которые будут поставлены таким ведущим китайским производителям чипов, как SMIC и CXMT, а также примерно 20 — в 2027-м.

DUV — зрелая технология, широко применяемая для части передовых техпроцессов производства чипов, использующая обычно длинны волн 193 нм или 248 нм. Она более старая, чем технология экстремального ультрафиолета  (Extreme Ultraviolet, EUV, 13,5 нм),  но для которой требуется гораздо более сложное и дорогое оборудование.

Компания Aishengna основана в августе 2023 года с уставным капиталом в 1 млрд долл. и поддерживается двумя государственными акционерами — Shanghai Electric Holding и дочерней компанией Shanghai International Trust. У Aishengna нет сайта, там ничего не публикуют о своей деятельности. Однако стало известно, что Aishengna объединила команды стартапа Yuliangsheng, где в прошлом году начали тестировать прототип DUV-установки и Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).

В США запретили Китаю покупать новейшие литографические EUV-системы компании ASML. Экспортный контроль Нидерландов также ограничил доступ Китая к некоторым передовым системам DUV. Но, несмотря на стремление Китая к самообеспечению, эта страна остается важнейшим источником дохода для ASML, поскольку в первом полугодии на него пришлось около 16% чистых продаж голландского гиганта, так как китайские производители чипов продолжают активно закупать менее совершенные установки ультрафиолетового излучения.

По мнению экспертов, машины DUV компании Aishengna потребует дальнейшее тестирование и пока довольно далеки от моделей голландской ASML, долго доминировавшей на этом рынке. Но в случае успешного их внедрения Aishengna станет альтернативным источником оборудования для китайских производителей чипов, если западные правительства введут дополнительные ограничения на экспорт или обслуживание литографических установок.

Аналитики считают, что усилия Aishengna вряд ли повлияют на доходы ASML в среднесрочной перспективе, а производство собственного оборудования – важный шаг в рамках общенациональной инициативы Пекина по обеспечению самодостаточности в сфере производства полупроводников, что является одним из важнейших приоритетов председателя КНР Си Цзиньпина.