Компании SanDisk и Toshiba приступают к совместной разработке технологии изготовления микросхем флэш-памяти в соответствии с нормой проектирования 90 нм. Переход на новую технологию позволит повысить емкость микросхем, нарастить объемы производства и удешевить его.
Выпуск первых опытных партий запланирован на начало 2004 года. Компании будут производить микросхемы флэш-памяти типа И-НЕ емкостью по 2 и 4 Гбит. Такая память отличается высокой скоростью перезаписи и применяется в картах Smart Media, Compact Flash и Secure Digital. Другие производители также совершенствуют флэш-память: в частности, в августе Samsung начала производство микросхем емкостью 1 Гбит в соответствии с нормой проектирования 120 нм.
Служба новостей IDG, Амстердам