Установка была произведена на микроскопе Hitachi S-4000 SEM с целью преобразования существующего микроскопа в литографическую систему. Данный программно-аппаратный комплекс предоставляет пользователю интуитивно понятный графический интерфейс для создания и проектирования структур. Он позволяет осуществлять моделирование проявления резиста, учитывать коррекцию эффекта близости для плоских и трехмерных структур, рассчитывать компенсацию статических искажений отклоняющей системы, измерять и активно подавлять динамические ошибки отклоняющей системы пучка. Кроме того, с помощью NanoMaker можно осуществлять дизайн и моделирование таких сложных структур как голограммы и киноформная оптика, а также работать с дозовыми кривыми резистов для трехмерных структур. Разработка программно-аппаратного комплекса была осуществлена для широкого спектра микроскопов и в настоящее время внедрена и эксплуатируется на JEOL JSM-840, LEO 1560, BS-300, Philips SEM 525, Hitachi S-4000, на комплексах ZRM-12, ZRM-20, а также на ионных литографах с фокусированным пучком.