окончится в марте 2004-го, Toshiba вложит в строительство новой производственной линии на заводе в городе Оита 110 млн. долл., что составит примерно 10-процентную прибавку к запланированному объему годовых инвестиций Toshiba в полупроводниковый бизнес. Первоначально на новой линии, которую планируется пустить до конца первой половины 2004 года, будут производиться 200-милиметровые основы в соответствии с нормой проектирования 90 нм. Кроме того, в компании собираются построить еще одну линию на заводе в Йокаичи, по выпуску основ диаметром 300 мм, - она будет введена в действие в 2006 году. По словам представителя Toshiba, оборудование данной линии будет соответствовать "самым современным технологиям".

Служба новостей IDG, Токио