Китайские ученые создали в начале 2025 года в лаборатории в Шэньчжэне прототип устройства для производства новейших полупроводниковых чипов. Он разработан группой бывших сотрудников голландского полупроводникового гиганта ASML на основе реверс-инжиниринга литографов, использующих экстремальное ультрафиолетовое излучение (Extreme Ultraviolet, EUV).

EUV-литография, выпуск оборудования для которой монополизирован до сих пор нидерландской компанией ASML, позволяет создавать транзисторы размером менее 5 нм, что необходимо для 3-нм и 2-нм техпроцессов. В Китае разрабатывают собственные аналоги таких устройств, так как до сих пор ни одной EUV-машины стоимостью около 250 млн. долл. Китаю не продали. Они доступны только союзникам США — Тайваню (TSMC), Корее (Samsung) и Японии (Intel).

В настоящее время, как сообщают, китайская установка работает и успешно генерирует экстремальное ультрафиолетовое излучение, но пока не производит работающие чипы. Передовые системы EUV компании ASML имеют размеры «примерно со школьный автобус», а установка в Шэньчжэне занимает целый производственный цех. Одна из основных причин отставания от машин ASML — отсутствие таких оптических систем, какие выпускает компания Carl Zeiss, один из главных поставщиков ASML.

В ASML заявили в апреле, что Китаю потребуется очень много лет, чтобы разработать технологию. В ASML создали первый рабочий EUV-прототип в 2001 году, а коммерчески доступные чипы появились в 2019 году после миллиардных инвестиций в НИОКР. Однако наличие китайского прототипа свидетельствует о том, что Китай может быть намного ближе к достижению независимости в производстве полупроводников, чем предполагали аналитики.

Тем не менее, в Китае по-прежнему сталкиваются с серьезными техническими проблемами, но возможность приобретения на вторичном рынке компонентов ранее выпущенных машин ASML позволила создать собственный прототип. Цель правительства страны — начать производство чипов на этом прототипе к 2028 году. По данным близким к проекту источников, более реалистичный срок – 2030-й, что все равно намного раньше, чем десятилетие, которое аналитики отводили Китаю, чтобы догнать Запад.

Создание в 2025 году EUV-прототипа — это кульминация развернутой в 2019-м шестилетней государственной инициативы достижения самообеспечения Китая полупроводниками, которая является одной из высших приоритетных задач председателя Си Цзиньпина. Хотя цели Китая в области чипов и являются публичными, проект EUV в Шэньчжэне проводился в закрытом режиме. Важнейшую роль в координации усилий компаний и государственных исследовательских институтов, где работают тысячи инженеров, играет электронный гигант Huawei. Все это называют китайской версией Манхэттенского проекта, основная цель которой – собственное производство передовых чипов с полным исключением цепочек поставок из США.