Разработка 65-нанометровой технологии, занявшая около двух лет, успешно завершилась в декабре 2013 года: были получены первые работающие тестовые кристаллы. Исследования показали, что транзисторы в новых кристаллах работают в полтора раза быстрее, чем выполненные по уже освоенной в производстве 90-нанометровой технологии, при одновременном снижении потребляемой энергии более чем вдвое.

В технологическом процессе использовалась ультрафиолетовая фотолитография с длиной волны излучений 193 нм, которая применяется для серийного производства 90-нанометровых чипов.

Процесс производства по технологии 65 нанометров совместим с основной инфраструктурой и оборудованием существующей линии по производству интегральных схем на пластинах диаметром 200 мм. Завершив в апреле 2014 года установку дополнительного технологического и контрольно-измерительного оборудования и проведя сертификацию 65-нанометрового процесса, «Микрон» сможет приступить к серийному производству микросхем по принципиально новым для России технологиям.

Первое изделие по 65-нанометровой технологии планируется запустить в производство уже в апреле. Это будет универсальная оперативая память емкостью 16 Мбайт (100 млн транзисторов), используемая в различных вычислительных системах. В дальнейшем планируется освоить в серийном производстве другие логические и аналогово-цифровые полупроводниковые приборы, в том числе с встроенной памятью: процессоры и микропроцессоры, ЦАП/АЦП, программируемая матричная логика и другие.